2026년 2월 12일 · Unknown · financial · 출처 Globenewswire
시카고, 2026년 2월 11일 (글로브뉴스와이어) -- 글로벌 반도체 제조 장비 시장은 2024년 102억 2천만 달러 규모로 평가되었으며, 2025년부터 2033년까지 연평균 복합 성장률(CAGR) 6.4%로 성장하여 2033년까지 178억 6천만 달러에 도달할 것으로 예상됩니다.
첨단 반도체 제조 기술의 급속한 확장에 힘입어 반도체 가스 시장이 전 세계적으로 급증하고 있습니다. 삼불화질소(NF3), 실란(SiH4), 염화수소(HCl)와 같은 반도체 가스는 식각, 증착, 세정 공정에 핵심적으로 사용됩니다. 이 시장은 최첨단 칩 제조에 고순도 가스의 채택이 증가하는 추세를 반영하고 있습니다. 특히, 삼불화질소는 화학 기상 증착 챔버 세정에 널리 사용되며, 실란은 메모리 및 로직 칩의 박막 증착에 필수적입니다. 미국과 한국이 이들 가스의 주요 소비국으로, 한국의 반도체 산업은 첨단 메모리 칩 생산을 위해 NF3에 크게 의존하고 있습니다. 또한 일본과 대만은 고순도 가스의 핵심 개발국으로, 에어 프로덕츠와 린데와 같은 기업들이 공급망을 지배하고 있습니다.
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**EUV 리소그래피 및 차세대 칩 제조에 필수적인 불소화 및 특수가스**
반도체 가스 시장 성장의 주요 동인은 결함 없는 제조를 보장하기 위해 초고순도 가스를 필요로 하는 3nm 및 2nm 칩과 같은 첨단 반도체 노드의 확산입니다. 예를 들어, 대만 반도체 제조 회사(TSMC)는 5nm 미만 칩의 핵심 공정인 극자외선(EUV) 리소그래피를 위해 불소화 가스 사용을 확대했습니다. 더불어 전기차(EV)와 5G 인프라의 부상은 식각 및 플라즈마 공정에 사용되는 헥사플루오로에탄(C2F6) 및 아르곤과 같은 특수가스 수요를 크게 증가시켰습니다. 2024년에만 전기차 부문이