2026년 5월 6일 · Unknown · financial · 출처 Yahoo Finance
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글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장은 2026년부터 연평균 성장률(CAGR) 8.4%를 기록하며 2036년까지 약 268억 1천만 달러(USD 26.81 billion)에 이를 전망입니다. 반도체 미세화 공정과 인공지능(AI) 응용 분야의 발전에 힘입어, 특히 High-NA EUV 이니셔티브에서 상당한 성장 잠재력을 보이고 있습니다. 시장은 장비, 기술 및 최종 사용 분야로 세분화되며, 노광 시스템과 표준 EUV/NXE가 가장 큰 점유율을 차지할 것으로 예상됩니다. 아시아 태평양 지역은 첨단 제조에 대한 막대한 투자로 선도하고 있으며, 북미와 유럽도 강력한 입지를 유지하고 있습니다. 주요 기업으로는 ASML, 니콘(Nikon), 캐논(Canon) 등이 있습니다.
더블린, 2026년 5월 6일 (GLOBE NEWSWIRE) -- "극자외선(EUV) 리소그래피 시장: 장비(노광 시스템, 광원, 광학 및 미러, 마스크 관련 시스템), 기술(표준 EUV/NXE, High-NA EUV/EXE), 최종 사용 분야(파운드리, 메모리, IDM)별 - 2036년까지의 글로벌 전망" 보고서가 ResearchAndMarkets.com에 추가되었습니다.
글로벌 EUV 리소그래피 시장은 2026년 119억 3천만 달러(USD 11.93 billion)에서 2036년까지 약 268억 1천만 달러(USD 26.81 billion)에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간(2026-2036) 동안 연평균 성장률(CAGR) 8.4%를 기록할 전망입니다.
이 보고서는 5대 주요 지역에 걸친 글로벌 EUV 리소그래피 시장에 대한 심층 분석을 제공하며, 현재 시장 동향, 시장 규모, 최근 개발 사항 및 2036년까지의 전망을 강조합니다. 광범위한 2차 및 1차 조사와 시장 상황에 대한 심층 분석을 바탕으로, 보고서는 주요 산업 동인, 제약 요인, 기회 및 과제에 대한 영향 분석을 수행합니다.
EUV 리소그래피 시장 성장을 주도하는 주요 요인으로는 첨단 반도체 미세화 공정에 대한 글로벌 관심 증가, 고성능 컴퓨팅 및 인공지능 응용 분야의 급속한 확장이 포함됩니다. 또한, High-NA EUV 이니셔티브의 빠른 확대, 첨단 파운드리 단지에서의 고신뢰성 패터닝 필요성 증가, 디지털 제조 통합 등이 시장 성장에 기여하고 있습니다.